99.999%氧化鋅（ZnO)粉末 



1，技術對接：CVD化學氣相沉積（在一特殊的負壓裝置中，有高純鋅蒸餾室，氬氣噴嘴，反應室，沉積室，抽氣泵。經過活性炭和凈化系



統后的高純氬氣將鋅蒸氣帶入反應室與過量的氧氣氣相沉積)生產的ZnO為微米級;,



2，檢驗： ICP-MS;XRD,激光粒度分析儀；



3，服務：提供免費樣品；MSDS及實用的防護措施；提供材料的應用解決方案;



4，物理性質：



分子量：81.408



密度：5.606 g/cm3 



熔點：1975℃



沸點：2360℃



5，規格：



氧化鋅：ZnO-05 純度99.999%以上，銀，鋁，砷，銅，鎘，鈷，鐵，銦，鎂，鎳，鉛，錫雜質總含量小于10ppm；



6，物理性狀：純白色粉末；



7，用途：



主要用于制備鋅鹽，ZnO單晶，氣敏，濕敏，壓敏，光敏材料及半導體電子元件。電子元件及集成電路貼片材料，即可作磷光劑，光熒光，



電熒光，紫外輻射激光，X射線，陰極射線熒光等發光材料，雷電過壓保護器，穩壓，變頻元件隱形材料等；

8，包裝：聚乙烯瓶封裝。

公司12年來共研制開發出40余項半導體化合物材料：
碲系化合物：
碲化銅(CuTe)，碲化銦( InTe)，碲化鋅(ZnTe)，P/N三碲化二鉍(Bi2Te3)，二氧化碲(TeO2)...
硫系化合物：
三硫化二鎵(Ga2S3)，二硫化鍺(GeS2)，硫化鋅(ZnS)，硫化錫(SnS)，三硫化二銦(In2S3)，硫化亞銅（Cu2S）...
無氧硒及硒系化合物:
三硒化二鎵(Ga2Se3)，硒化亞銅(Cu2Se)，三硒化二銦(In2Se3)，硒化鋅(ZnSe)，硒化鉍(Bi2Se3)...
氯系化合物：
無水三氯化銦(InCl3)，無水三氯化鎵(GaCl3)，無水氯化亞銦(InCl)...
氧系化合物：
4N-5N三氧化二鎵(Ga2O3)，4N-5N氧化鋅(ZnO)，5N-6N 三氧化二銦(In2O3)，5N 三氧化二鉍(Bi2O3)，4N-5N 三氧化二銻（Sb2O3）...
銅銦鎵硒（CIGS）系列材料.
靶材：氧化鋅靶，氧化鋅鋁靶，銅銦鎵硒靶，三硒化二銦靶，硒化亞銅靶材...
公司現有工藝及設備：
1，電解裝置4套：回收電解銅，電解鉛鋅礦的陽極泥；高純銦的電解，特別是除去里面的雜質錫。
2，真空蒸餾裝置12套：根據雜質不同的飽和蒸氣壓，采用真空蒸餾的方法將其去除。
3，區域熔煉爐10套。
4，單間提拉爐12套。
5，CVD 化學氣相沉積設備3套。
6，PVD裝置2套。
7，真空熔煉爐15套。
8，THM 移動式加熱設備。
9，氯化爐3套（高純銻專用），氫化還原爐3套。
公司現有的檢測設備：
1，ICP-MS;ICP-OES (適用范圍：檢測<99.999% 純度的產品）
2，XRD （化合物的相結構分析）
3，激光粒度分析儀（粉末粒徑）
4，對于99.9999%以上的產品，提供GDMS 外檢指標（送EAG外檢）
研發、生產、銷售：半導體材料、光電材料，貨物技術的進出口業務