金屬靶材：鋯靶Zr、鉻靶Cr、鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、釩靶V、銻靶Sb、銦靶、硼靶B、鎢靶W、錳靶Mn、鉍靶Bi、銅靶Cu、石墨靶C、硅靶 Si、鉭靶 Ta、鋅靶Zn、鎂靶Mg、鈮靶Nb、鉬靶Mo、鈷靶Co、鐵靶Fe、鍺靶Ge、鉿靶Hf、鉛靶Pb、鎳靶Ni、銀靶Ag、硒靶Se、鈹靶Be、碲靶Te、不銹鋼靶材S.S等

i-ZnO 平面靶參數：

產品名稱	i-ZnO 平面靶
純度	>99.99-99.999%
相對密度	>99%
應用領域	Thin Film Solar、TP、TFT-LED、OLED、Optical、LOW-E Glass

深圳市眾誠達材料應用科技有限公司 澆鑄靶材，AZO靶材質量是影響濺射法制備薄膜的關鍵因素之一 真空鍍膜靶材，優良的靶材是制備高性能薄膜的首要條件 磁控濺射，透明導電薄膜的質量主要體現在其電阻率和可見光區的透射率。眾誠達靶材濺射靶材主要應用于電子及信息產業，如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等；亦可應用于玻璃鍍膜領域；還可以應用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業。

AZO平面靶：

真空鍍膜靶材、眾誠達應用材料公司(已認證)、石家莊靶材由深圳市眾誠達應用材料科技有限公司提供。深圳市眾誠達應用材料科技有限公司（）是廣東 深圳 ,有色金屬合金的翹楚，多年來，公司貫徹執行科學管理、創新發展、誠實守信的方針，最大限度的滿足客戶需求。在眾誠達應用材料公司領導攜全體員工熱情歡迎各界人士垂詢洽談，共創眾誠達應用材料公司更加美好的未來。

深圳市眾誠達應用材料科技有限公司是一家專業從事磁控濺射靶材材料研發、生產、銷售于一體的高新技術企業，生產工廠位于深圳市寶安區。工廠主要生產陶瓷、金屬、合金、化合物等各種濺射靶材，并為客戶提供背板與幫定服務。靶材產品主要應用于薄膜太陽能、平板顯示、建筑工程玻璃、光學鍍膜、裝飾與功能鍍膜等科技領域。 公司靶材生產技術，生產工藝成熟，陶瓷燒結技術團隊來自于臺灣，從事陶瓷燒結生產40多年，掌握先進的注漿燒結工藝技術；等離子噴涂技術團隊來自于中國航天科技，從事等離子噴涂技術工作已三十余年，持有多項專利技術。經過10多年的發展，公司已經建成陶瓷燒結、等離子噴涂、真空熔煉、旋轉靶材幫定、水路背板等產品生產線。公司已與南開大學、武漢理工大學、華南理工大學、福州大學、深圳先進技術研究院、中國科學院等國內多家知名院所合作，致力于新材料與新工藝的研發，持續為全球客戶提供各種高品質的靶材產品與服務。