? ? ??MEMS制造的特點是，濕法清洗機，它含有3D精細圖形的深刻蝕，并要求橫向深刻蝕埋層氧化物的釋放加工工藝。用常規的濕法刻蝕和清洗技術是不能完成從這種非常緊密的幾何圖形除去可能的刻蝕殘留物，并確保懸臂梁和膜片的無靜摩擦操作的。已經研究用無水HF/甲醇（AHF/MeOH））犧牲層氧化物刻蝕工藝作為后者的可行解決方法。

氨水加氧化劑清洗液

?　 氨水加氧化劑清洗液配方為: NH4OH∶H2O2∶H2O=1∶10∶10~1∶20∶20，溫度為25~40℃，濕法清洗機，時間10~30min。由于這種清洗液具有堿性、氧化性和絡合性，可以發生氧化反應、產生微蝕刻作用，以達到去除表面顆粒的目的，可以去除一些有機污染物及部分重金屬離子污染物。

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