電鍍和真空鍍有什么區別

? ? 水電鍍: 一般適用于ABS料、ABS+PC料的產品。主要工藝是將需電鍍的產品放入化學電鍍液中進行電鍍。根據客戶的不同需要，塑料真空電鍍設備，可鍍成不同的顏色，與高光銀色、亞銀色、灰銀，伊春塑料真空電鍍，槍色，金色，黑鉻色，半光鉻。因為電鍍后的產品其導電性顯著增強，對于某些需絕緣的部件辦法有兩種：

　　其一，在需絕緣的部位涂上絕緣油，該部位在電鍍時就不會被電鍍到，從而達到絕緣效果！當然，涂了絕緣油的部位會變黑，就不適宜作為外觀面了。

　　其二，在需電鍍的部位用特殊的膠紙貼住，保護起來，同樣達到絕緣的效果。

真空鍍膜中關于靶材中毒的原因

靶中毒現象

(1)正離子堆積：靶中毒時，靶面形成一層絕緣膜，正離子到達陰極靶面時由于絕緣層的阻擋，不能直接進入陰極靶面，而是堆積在靶面上，容易產生冷場致弧光放電---打弧，使陰極濺射無法進行下去。（2）陽極消失：靶中毒時，接地的真空室壁上也沉積了絕緣膜，到達陽極的電子無法進入陽極，形成陽極消失現象。

靶中毒的物理解釋

（1）一般情況下，金屬化合物的二次電子發射系數比金屬的高，靶中毒后，靶材表面都是金屬化合物，塑料真空電鍍廠家，在受到離子轟擊之后，釋放的二次電子數量增加，提高了空間的導通能力，降低了等離子體阻抗，導致濺射電壓降低。從而降低了濺射速率。一般情況下磁控濺射的濺射電壓在400V-600V之間，當發生靶中毒時，濺射電壓會顯著降低。（2）金屬靶材與化合物靶材本來濺射速率就不一樣，一般情況下金屬的濺射系數要比化合物的濺射系數高，所以靶中毒后濺射速率低。（3）反應濺射氣體的濺射效率本來就比惰性氣體的濺射效率低，所以反應氣體比例增加后，綜合濺射速率降低。

靶中毒的解決辦法

（1）采用中頻電源或射頻電源。（2）采用閉環控制反應氣體的通入量。（3）采用孿生靶（4）控制鍍膜模式的變換：在鍍膜前，采集靶中毒的遲滯效應曲線，使進氣流量控制在產生靶中毒的前沿，確保工藝過程始終處于沉積速率陡降前的模式。

我們都知道，電鍍質量會直接影響首飾的美觀以及整體性能。如在深圳真空電鍍加工過程中，k金使用真金靶材，通過高溫使真金附著在產品表面，這樣的工藝保色更持久。而且可供的鍍膜顏色多種多樣，能夠大大提升首飾的美觀程度。

深圳真空電鍍一直以來都以真空電鍍加工為主，在整個過程中，塑料真空電鍍廠，都會根據產品的不同而采用不同的電鍍工藝，并且嚴格把控電鍍每一個流程，包括嚴格控制時間、產品質檢，進行耐磨耐腐蝕測試等等，使鍍制膜層穩定統一。

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