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硬質陽極氧化設備：技術介紹：氧化膜具有良好的耐磨性、耐侵蝕、耐腐蝕性，根據應用要求不同，膜層厚度可在0.001-0.115英寸（25-125微米）之間或以上，而傳統工藝的膜層厚度一般為0.0001-0.0010英寸（2.5-25微米）。對重量輕且有很高的耐磨、耐腐蝕、絕緣的產品需求不斷增長，使得該種表面處理工藝受到市場歡迎。硬質氧化膜也被用于充當特定材料的連接件，從而減少摩擦系數或形成良好的釋放性能。在絕大多數鋁合金材料上都可獲得超厚緊密的膜層。但是對于合金材料的選擇和工藝溫度都應仔細考慮。 現已發展出多種硬質陽極氧化工藝是用于各種不同應用。低壓硬質陽極氧化工藝就是使用多功能電源系統在交流電流上疊加直流電流。此種工藝科在較低的電壓下（12-18V）形成高中質量的硬質氧化膜。此外，含銅量很高的合金例如2011可在較短時間內進行陽極氧化而不出現“燒灼”現象，經過T6特別淬火處理的6061合金的氧化膜厚度可達6-7密耳，而直流高壓工藝在此類合金上形成的膜層厚度不超過2.5-3密耳。含銅量更高的2024合金在低壓工藝中也可形成最厚達6密耳的氧化膜。
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