半導體超純水設備優點：
半導體超純水設備配置了前級處理系統，如活性炭吸附過濾器和精密保安過濾器，在電控和自控方面，裝備了壓力自動保護系統和水質自動在線監測儀表系統，使設備操控系統一目了然，并且有前級進水增壓，后級水箱液位聯動接。 盡可能地減少各級的污染，延長設備的使用壽命、降低操作人員的維護工作量，真正做到了無人職守，同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統一的方法，使設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。
半導體設備工藝流程：
　1、舊工藝流程為：原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→陽床→陰床→混床（復床）→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點
　　2、新工藝流程為：原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設備→混床（復床）→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點
　　3、最新工藝流程為：原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設備→電去離子（EDI）→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點 
      半導體超純水設備最新工藝的特點；
(1)無人值守,水質穩定。RO-EDI脫鹽系統,出水水質平穩,不出現混床那樣的周期性變化。
(2)不用酸堿,不污染環境。傳統的脫鹽系統采用離子交換法脫鹽,無論采用一級復床(陽床或陰床),還是兩級復床或混床,均采用離子交換樹脂,樹脂用酸堿再生,并反復利用。在用酸堿再生樹脂的過程中,有大量的廢酸堿排放,破壞水系的生態平衡,而采用RO-EDI脫鹽系統,在運行過程中不用酸堿。
(3)可連續生產,不需備用裝置。半導體超純水設備脫鹽系統中設備連續運行,EDI組件采用每個容量為2～3ｔ/ｈ的膜塊,再并聯擴大容量,也不需備用裝置,解決了原來離子交換設備需停用再生,設有備用的缺陷。
(4)半導體超純水設備的進水有要求。對進水水質的要求因膜而異,水質如達不到要求,應采用適當的預處理方法改善水質。除采用混凝和沉降處理外,預處理有多介質過濾、活性炭過濾、精密過濾等,有時為了防止RO膜阻塞,對高硬度水還要進行軟化。
 (5)占地面積小,運行費用低。
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