OG-ACE緊湊型臺式反應離P/N: OG-ACE緊湊型臺式反應離子刻蝕（RIE）系統Compact Table-Top RIE Systems
 
 ACE 多功能臺式等離子處理系統基本應用
 ? A – Ashing 光刻膠灰化、Activation材料表面活化
 ? C – Cleaning 等離子清洗
 ? E – Etching 等離子刻蝕
 ? 各向同性的等離子刻蝕（Isotropic Plasma Etching） 
 ? 各向異性的反應離子刻蝕（Anisotropic RIE）
 
 ACE 多功能臺式等離子處理系統其它應用
 ? 去除有機物 Organic Removal；
 ? PDMS鍵合 PDMS Bonding;
 ? 有機物預鍵合 Oxides Pre-Bonding;
 ? 失效分析 Failure Analysis;
 ? 電子器件及混合物清洗Devices, Hybrids Cleaning
 
 ACE 等離子系統的技術規格優勢
 ? 標準射頻功率：10~150W @ 13.56 MHz (功率適中，價位較300W低廉)；
 ? 自動操作計時器：射頻電源實際放電，艙內輝光后，開始計時及定時；
 ? 參數顯示：旋鈕切換顯示射頻功率設定值、艙內實際功率、艙內真空度等（較觸摸屏略簡化，但經濟適用，滿足基本功能需要）；
 ? LED系統自檢外設卡：LED顯示器用于系統模塊狀態故障自檢（無需專業人員維護，根據LED顯示情況即可判斷故障所在，并采取修正措施）；
 ? 真空處理艙建造材料：艙體采用陽極氧化6061-T6航空級鋁材（材質性能穩定，且不會與材料起反應，造成二次污染）；
 ? 樣件支架：雙用途支架，用于不同工藝應用即標準等離子工藝處理 、 反應離子刻蝕（RIE）工藝處理(僅通過手動切換，無復雜的電子部件，性能穩定)；
 ? 配套真空泵浦使用工藝氣體: 大氣、氬氣、氮氣、活性氣體如氧氣及氟化氣體如四氟化碳(抽氣速率為166 l/min, 5.8 CFM, 10 m3/hr、真空度可達5x10-4 Torr, 6.7x10-2 Pa, .0006 mbar)；能夠快速抽空真空艙、實現等離子輝光；
 ? 系統整機經過安全檢測、通過CE認證；
 
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