結構光三維傳感技術通過投射編碼圖案到目標表面，利用圖案變形重構物體三維形貌，廣泛應用于人臉識別與工業檢測。超透鏡在結構光投影系統中可將單束激光高效轉換為密集點陣、條紋或任意自定義編碼圖案，替代傳統衍射光學元件與準直透鏡組合。通過設計超透鏡表面的相位分布，可在遠場生成具有特定角分布與能量比例的散斑圖案，為三維重建提供高對比度的結構光場。與液晶空間光調制器方案相比，超透鏡具有無源、高損傷閾值與無需外部供電的優勢。江蘇優眾微納擁有從相位設計到納米壓印量產的完整能力，可根據客戶對投影圖案密度、視場角與工作距離的要求快速定制結構光超透鏡，支持消費電子與工業3D傳感系統的創新開發。基于介質超表面的超透鏡具有較低的吸收損耗適用于高功率光學場景。遼寧替代傳統光學模組超透鏡芯片

激光雷達系統對發射光束的形態與能量分布有著嚴格要求，傳統方案通常需要多片透鏡組或衍射光學元件組合實現光束整型。超透鏡憑借其單片集成的相位調控能力，可將激光器發出的高斯光束高效轉換為平頂光斑、線形光斑或特定圖案的照明光場，簡化發射模組結構。在掃描式激光雷達中，超透鏡通過設計特定的相位剖面，使發射光束在遠場形成均勻的能量分布，確保不同方向目標的回波信號強度一致。在泛光照明式激光雷達中，超透鏡將激光束擴展為覆蓋探測器視場的均勻照明光斑，提升遠處小目標的探測概率。江蘇優眾微納依托晶圓級納米壓印量產能力，可提供針對905nm、1550nm等常用激光雷達波長的定制化超透鏡方案，支持客戶在探測距離、角分辨率與系統體積之間實現比較好平衡。遼寧替代傳統光學模組超透鏡芯片超透鏡是一種通過亞波長納米結構陣列對入射光波前進行精確調制的平面光學元件。

超透鏡引人注目的特性之一是其多功能集成能力——在單片平面結構上同時實現傳統需要多個分立元件才能完成的光學功能。這一特性源于超表面豐富的設計自由度，相位分布、振幅調制與偏振轉換可以在同一納米結構陣列中進行聯合編碼。例如，一片超透鏡可以同時實現光束聚焦、特定色差校正與偏振濾波，而傳統方案需要由聚焦透鏡組、消色差透鏡與偏振片組合完成。在三維成像系統中，超透鏡可取代準直鏡、衍射光學元件和擴散片等多個組件，縮減模組體積。在實時偏振成像中，超透鏡可將分束器、偏振器、波片和多探測器的功能集成于一片平面元件。江蘇優眾微納憑借自編算法與設計能力，可根據客戶需求進行多功能超透鏡的定制化設計，通過納米壓印技術實現高保真批量制造-1，推動光學系統從多組件堆疊走向芯片級集成，為下游應用釋放更多系統設計空間。

超透鏡的納米結構單元可設計為對特定偏振態具有選擇性響應，這使得超透鏡在偏振控制與偏振成像方面具有傳統折射透鏡無法比擬的優勢。通過設計各向異性的納米柱或納米天線，可使超透鏡對不同線偏振或圓偏振方向的入射光施加不同的相位調制，從而實現偏振相關的聚焦、分束或濾波功能。實時偏振成像技術利用超透鏡的偏振調控能力，可以同時形成多幅偏振分辨圖像，揭示出傳統成像中單次拍攝無法顯示的信息，如材料應力分布、表面粗糙度或目標與背景的偏振對比差異。基于多焦點超透鏡的全斯托克斯偏振成像通過分區或空間復用設計，在同一元件上實現不同偏振態的分離與聚焦，結合后端算法重構全部四個斯托克斯參量-4。江蘇優眾微納具備亞波長光柵與偏振超透鏡的設計與制造能力，可根據客戶對工作波段、消光比與偏振通道數的要求提供定制化方案。超透鏡的電磁場仿真設計、母版制備到納米壓印量產的全鏈條能力，確保產品性能與交付周期滿足行業應用需求。

相比傳統折射透鏡，超透鏡在多個維度展現出優勢。首先是體積與重量的大幅縮減，超透鏡厚度相當于波長量級，無需多片透鏡堆疊即可實現相同的聚焦功能，這對于便攜設備與空間受限系統意義重大。其次是設計靈活性，超透鏡可以在單片平面上集成多種光學功能，如聚焦、偏振調控與濾波等，而傳統設計需要多個分立元件組合。第三是無球差優勢，超透鏡的相位分布可以精確設計，實現衍射極限聚焦，無需復雜的非球面加工與裝配補償。此外，超透鏡的材料選擇更具多樣性，可在半導體材料平臺上一體化制造，與CMOS工藝兼容，有利于大規模低成本生產。江蘇優眾微納作為一家依托自主納米壓印技術的科技創新型企業，致力于將超透鏡的技術優勢轉化為可批量交付的工業產品，服務于、生物檢測、光通信、消費電子等關鍵領域，推動光學系統從“堆疊式”向“集成化”演進。在光譜成像系統中超透鏡可實現分光與成像功能的一體化集成以簡化光路。遼寧替代傳統光學模組超透鏡芯片

納米壓印工藝中的母版制備可采用電子束光刻以保證超透鏡結構的原始精度。遼寧替代傳統光學模組超透鏡芯片

超透鏡的性能高度依賴于其表面微納結構的制造精度，如何在晶圓級尺度上批量制備數十億個納米級結構單元，是產業化面臨的挑戰。常見的超透鏡制備方法包括電子束光刻、光刻技術、飛秒激光直寫光刻與納米壓印技術。電子束光刻具有超高分辨率，但曝光速度慢、成本高，適用于原型驗證；光刻技術分辨率高但設備成本昂貴；飛秒激光直寫具有真三維加工能力但效率有限。納米壓印技術通過將具有納米級尺寸圖案的模板壓印復制到高分子材料襯底上，具有成本低、工期短、產量高、分辨率高的優勢，是適合超透鏡量產的光刻工藝。江蘇優眾微納依托自主納米壓印技術，構建了從母版制備到壓印復制的完整工藝鏈條，在保持納米級精度的同時實現晶圓級批量生產，公司2023年營收規模破億，展現出國產超透鏡從技術突破向產業化發展的良好態勢。遼寧替代傳統光學模組超透鏡芯片

江蘇優眾微納半導體科技有限公司是一家有著先進的發展理念，先進的管理經驗，在發展過程中不斷完善自己，要求自己，不斷創新，時刻準備著迎接更多挑戰的活力公司，在江蘇省等地區的電子元器件中匯聚了大量的人脈以及客戶資源，在業界也收獲了很多良好的評價，這些都源自于自身的努力和大家共同進步的結果，這些評價對我們而言是最好的前進動力，也促使我們在以后的道路上保持奮發圖強、一往無前的進取創新精神，努力把公司發展戰略推向一個新高度，在全體員工共同努力之下，全力拼搏將共同江蘇優眾微納半導體科技供應和您一起攜手走向更好的未來，創造更有價值的產品，我們將以更好的狀態，更認真的態度，更飽滿的精力去創造，去拼搏，去努力，讓我們一起更好更快的成長！

江蘇優眾微納半導體科技有限公司是一家依托自主納米壓印技術,基于成熟穩定的半導體制程工藝,為客戶提供專業半導體微納器件一站式解決方案的科技創新型企業。公司在江蘇南通和浙江舟山共擁有近20000平米的標準半導體Fab工廠,車間涵蓋濕法、清洗、光刻、納米壓印、鍍膜、CMP、刻蝕、檢測等各種工藝制程,累計固定資產投入近5億元。